VE,Choong-知名学者引用-被知名学者引用-341人次-全球学者库

知名学者引用

除了所发表论文的被引用频次、期刊质量能够彰显学者的学术影响力以外，被知名学者引用也是一项学术评价的重要指标。
当前全球学者库认定的知名学者包括：诺贝尔奖、菲尔兹奖、图灵奖等奖项获得者，多个国家的院士，全球学者库“2023全球学者学术影响力排行版”入榜的前10万学者等。

VE,Choong University of ROCHESTER被知名学者引用：341人次（黄金会员以上可以申请导出本人论文被全部知名学者引用的数据）

1. Alan J,Heeger 中国北京航空航天大学 2000诺贝尔化学奖;2002美国工程院院士;2001美国科学院院士 End-capping as a method for improving carrier injection in electrophosphorescent light-emitting diod..

2. Alan J,Heeger 中国北京航空航天大学 2000诺贝尔化学奖;2002美国工程院院士;2001美国科学院院士 Stabilized blue emission from polyfluorene-based light-emitting diodes: Elimination of fluorenone de..

3. Alan J,Heeger 中国北京航空航天大学 2000诺贝尔化学奖;2002美国工程院院士;2001美国科学院院士 Ultrathin layer alkaline earth metals as stable electron-injecting electrodes for polymer light emit..

4. 邓青云中国香港科技大学 2011沃尔夫化学奖;2006美国工程院院士 Effect of lithium and silver diffusion in single-stack and tandem OLED devices

6. 邓青云中国香港科技大学 2011沃尔夫化学奖;2006美国工程院院士 Evidence of electron and hole transfer in metal/CuPc interfaces

7. 邓青云中国香港科技大学 2011沃尔夫化学奖;2006美国工程院院士 Direct observation of fermi-level pinning in Cs-doped CuPc film

8. 邓青云中国香港科技大学 2011沃尔夫化学奖;2006美国工程院院士 Photoemission study of energy alignment at the metal/Alq(3) interfaces

9. 邓青云中国香港科技大学 2011沃尔夫化学奖;2006美国工程院院士 Interfacial chemistry of Alq(3) and LiF with reactive metals

10. 邓青云中国香港科技大学 2011沃尔夫化学奖;2006美国工程院院士 Application of an ultrathin LiF/Al bilayer in organic surface-emitting diodes

13. 邓青云中国香港科技大学 2011沃尔夫化学奖;2006美国工程院院士 Photoemission study of interfaces in organic light-emitting diodes

14. 邓青云中国香港科技大学 2011沃尔夫化学奖;2006美国工程院院士 Interface formation between Al and Ca with tris-(8-hydroxyquinoline) aluminum

17. 邓青云中国香港科技大学 2011沃尔夫化学奖;2006美国工程院院士 Energy level alignment at Alq/metal interfaces

20. Thuc-Quyen,Nguyen 美国 University of California-Santa Barbara 2023美国工程院院士 Exciton diffusion in organic semiconductors