Development of an AC Electric Field-Applied Tribochemical Polishing Technology to Promote High-Efficiency Polishing for Glass Substrates (Image Analysis of Dynamical Slurry Behaviours and Polishing Characteristics under AC Electric Field)

Author:

IKEDA Hiroshi1,AKAGAMI Yoichi1

Affiliation:

1. Akita Industrial Technology Center

Publisher

Japan Society of Mechanical Engineers

Subject

Industrial and Manufacturing Engineering,Mechanical Engineering,Mechanics of Materials

Reference13 articles.

1. (1) 土肥俊郎,詳説.半導体CMP技術,(2001),p.362,工業調査会.

2. (3) 日経BP社,"終わらないレアアース.ショック",日経エレクトロニクス,No.1048 (2011) ,pp. 29-60.

3. (5) 赤上陽一, "機能性流体を用いた電界砥粒研磨技術",砥粒加工学会誌,Vol. 48,No. 11 (2004) ,pp. 18-21.

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