1. (1) N. Yamada, E. Ohno, K. Nishiuchi, N. Akahira and M. Takao: J. Appl. Phys., 69(1991), 2849-2856.
2. (2) S. Lai and T. Lowrey: IEDM Tech. Dig., 36(2001), 803-806.
3. (3) S. Lai: IEDM Tech. Dig., 10(2003), 255-258.
4. (4) Y. N. Hwang, S. H. Lee, S. J. Ahn, S. Y. Lee, K. C. Ryoo, H. S. Hong, H. C. Koo, F. Yeung, J. H. Oh, H. J. Kim, W. C. Jeong, J. H. Park, H. Horii, Y. H. Ha, J. H. Yi, G. H. Koh, G. T. Jeong, H. S. Jeong and K. Kim: IEDM Tech. Dig., 37(2003), 893-896.
5. (5) A. L. Lacaita: Solid. State. Electron., 50(2006), 24-31.