ニュースバルにおけるX線リソグラフィー微細加工
Author:
Affiliation:
1. LASTI, University of HYOGO
Publisher
Japan Institute of Electronics Packaging
Subject
Electrical and Electronic Engineering
Link
https://www.jstage.jst.go.jp/article/jiep/26/5/26_483/_pdf
Reference25 articles.
1. 1) Y. Utsumi, T. Kishimoto, T. Hattori, and H. Hara: “Large-area X-ray lithography system for LIGA process operating in wide energy range of synchrotron radiation,” Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 44, No. 7B, pp. 5500–5504，2005年7月
2. 2) M. Takeuchi, A. Yamaguchi, and Y. Utsumi: “Deep X-ray lithography system with a uniform and high-accuracy fabrication area established in beamline BL11 at NewSUBARU,” J. Synchrotron Rad., Vol. 26, pp. 528–534，2019年3月
3. 3) 江口昌信：“改訂版 根拠から学ぶ基礎看護技術”サイオ出版，2015年3月：https://www.kango-roo.com/learning/2641/
4. 4) O. Tabata, K. Terasoma, N. Agawa, and K. Yamamoto: “3-dimensional microstructure fabrication using multiple moving mask deep X-ray lithography process,” IEEJ. Trans. SM., Vol. 120, pp. 321–326，2000年
5. 5) K. C. Lee and S. S. Lee: “Deep X-ray mask with integrated actuator for 3D microfabrication,” Sensors and Actuators A, Vol. 108, pp. 121–127，2003年
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