Trend of Semiconductor Devices and Planarization Technology with Future Development-Reference-Cited by-同舟云学术

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Trend of Semiconductor Devices and Planarization Technology with Future Development

Published:2007 Issue:7 Volume:73 Page:745-750
ISSN:1882-675X
Container-title:Journal of the Japan Society for Precision Engineering
language:
Short-container-title:Journal of the Japan Society for Precision Engineering

Author:

DOI Toshiro,HIYAMA Hirokuni,FUKUDA Akira,KUROKAWA Shuhei

Publisher

Japan Society for Precision Engineering

Subject

Mechanical Engineering

Reference18 articles.

1. 1) International Technology Roadmap for Semiconductors 2005 Edition, (2005).

2. 2) 林:第53回精密工学会「プラナリゼーションCMP研究会」資料(2006年10月)17.

3. 3) H. Miyoshi et al.: Jpn. J. Appl. Phys., 43, 2 (2004) 498.

4. 4) 粟野:第51回精密工学会「プラナリゼーションCMP研究会」資料(2006年6月)49.

5. 5) M. Nihei et al.: Extended Abstracts of the 2006 International Conference on Solid State Devices and Materials, Yokohama, (2006) 140-141.

Cited by 3 articles. 订阅此论文施引文献订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Rayleigh Criterion;Annals of Business Administrative Science;2017-10-15

2. Chemical Mechanical Machining Process;Handbook of Manufacturing Engineering and Technology;2014-09-30

3. Chemical-Mechanical Machining Process;Handbook of Manufacturing Engineering and Technology;2013

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