Process-strained Si (PSS) CMOS technology featuring 3D strain engineering

Author:

Ge C.-H.,Lin C.-C.,Ko C.-H.,Huang C.-C.,Huang Y.-C.,Chan B.-W.,Perng B.-C.,Sheu C.-C.,Tsai P.-Y.,Yao L.-G.,Wu C.-L.,Lee T.-L.,Chen C.-J.,Wang C.-T.,Lin S.-C.,Yeo Y.-C.,Hu C.

Publisher

IEEE

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