Frequency doubling and resolution enhancement technique exploration for chrome-less phase shift mask
Author:
Affiliation:
1. Beijing Superstring Academy of Memory Technology,Litho R&D Departments,Beijing,China
2. Changxin Memory Technologies Inc,Litho Departments,Beijing,China
Publisher
IEEE
Link
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/9971792/9972241/09972309.pdf?arnumber=9972309
Reference7 articles.
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4. Scaling rules of phase error control for the manufacturing of alternating phase-shifting masks for 193-nm photolithography and beyond
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