Microspherical lithography for selective epitaxy
Author:
Affiliation:
1. Alferov University,Laboratory of Renewable energy sources,St. Petersburg,Russia,194021
2. St. Petersburg State University,Faculty of Physics,St. Petersburg,Russia,199034
Publisher
IEEE
Link
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/9839664/9839667/09840191.pdf?arnumber=9840191
Reference4 articles.
1. Selective Area Growth of GaN Nanowires on Graphene Nanodots
2. Wide-angle light-trapping electrode for photovoltaic cells
3. Recent progress in integration of III–V nanowire transistors on Si substrate by selective-area growth
4. Optimization of microsphere optical lithography for nano-patterning
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