Microwave switching functions using reversible metal-insulator transition (MIT) in VO2 thin films
Author:
Publisher
IEEE
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http://xplorestaging.ieee.org/ielx5/4405081/4405082/04405113.pdf?arnumber=4405113
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1. High frequency resistive switching behavior of amorphous TiO2 and NiO;Scientific Reports;2022-08-13
2. Phase analysis of VO2 thin film and the mechanism of the electrically triggered metal-insulator transition of VO2;Nanophotonic Materials XIV;2017-08-28
3. Characterizing Metal Insulator Transition (MIT) Materials for Use as Micro-Switch Elements;MEMS and Nanotechnology, Volume 6;2012-08-10
4. Voltage-Pulse-Induced Switching Dynamics in $ \hbox{VO}_{2}$ Thin-Film Devices on Silicon;IEEE Electron Device Letters;2011-11
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