Improved Analog Performance of PZT Ferroelectric AlGaN/AlN/GaN E-Mode GR-MOSHEMT
Author:
Affiliation:
1. The LNM Institute of Information Technology,Department of ECE,Jaipur,India
Publisher
IEEE
Link
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/9752769/9752688/09752935.pdf?arnumber=9752935
Reference17 articles.
1. Ferroelectric gate on AlGaN/GaN heterostructures;malin;2006 15th ieee international symposium on the applications of ferroelectrics ISAF,0
2. Design and analysis of 10 nm T-gate enhancement-mode MOS-HEMT for high power microwave applications
3. DC analysis of GaN-capped AlGaN/GaN HEMT for different gate-drain spacing
4. Simulation of hot electron and quantum effects in AlGaN/GaN heterostructure field effect transistors
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