In situ Post Etch Treatment on Ge-rich GST after etching in HBr-based plasma
Author:
Affiliation:
1. Univ.Grenoble Alpes, CEA,Patterning Service.,Leti. F-38000 Grenoble,France
2. STMicroelectronics,R&D Department,Crolles,France
3. Univ.Grenoble Alpes,Characterization Department,CEA,Leti, F-38000 Grenoble,France
Publisher
IEEE
Link
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/10154618/10154586/10154885.pdf?arnumber=10154885
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