Study of Cu Pad Expansion with Surrounding Dielectrics for Hybrid Bonding
Author:
Affiliation:
1. Agency for Science, Technology and Research (A*STAR),Institute of Microelectronics,Singapore,117685
Publisher
IEEE
Link
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/10457288/10457581/10457722.pdf?arnumber=10457722
Reference4 articles.
1. Heterogeneous Integration Roadmap: Driving Force and Enabling Technology for Systems of the Future
2. Cu-SiO2Hybrid Bonding
3. Direct Bonding of low Temperature Heterogeneous Dielectrics
4. Wafer-to-Wafer Hybrid Bonding Development by Advanced Finite Element Modeling for 3-D IC Packages
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