Cuprous Oxide Thin Films Deposited by Chemical Bath Deposition: Effect of Temperature and TEA

Author:

Reyes-Vallejo Odín1,Sánchez-Albores Rocío M.1,Ashok A.1,Fernández-Madrigal Arturo2,Díaz J.J.3,Montejo-López Wilber4,Escobar Salvador5,Sebastian P. J.2

Affiliation:

1. CINVESTAV- IPN, Ciudad de,Sección de Electrónica de Estado Sólido- Ingeniería eléctrica (SEES),México,México

2. Institute de Energías Renovables-UNAM (IER-UNAM),Morelos,México

3. CINVESTAV-IPN,Programa de Nanociencia y nanotecnología,Ciudad de México,México

4. Universidad Autónoma de Chiapas (UNACH),Escuela de Ciencias Químicas,Chiapas,México

5. Instituto de Física-UNAM (IF-UNAM),Ciudad de México,México

Publisher

IEEE

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