Extreme Temperature (> 200 °C), Radiation Hard (> 1 Mrad), Dense (sub-50 nm CD), Fast (2 ns write pulses), Non-Volatile Memory Technology

Author:

Suryavanshi Saurabh V.1,Yeric Greg2,Irby Max3,Huang X. M. Henry4,Rosendale Glen5,Shifren Lucian6

Affiliation:

1. Cerfe Labs,Clovis,CA,USA

2. Cerfe Labs,Austin,TX,USA

3. Cerfe Labs,Dallas,TX,USA

4. Cerfe Labs,Cupertino,CA,USA

5. Cerfe Labs,Palo Alto,CA,USA

6. Cerfe Labs,San Jose,CA,USA

Funder

AFRL

Publisher

IEEE

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1. Synaptic MIS Silicon Nitride Resistance Switching Memory Cells on SOI Substrate;2023 IEEE 23rd International Conference on Nanotechnology (NANO);2023-07-02

2. Test Methodology Development for Investigating CeRAM at Elevated Temperatures;2023 35th International Conference on Microelectronic Test Structure (ICMTS);2023-03-27

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