Performance and Reliability Co-design of Ultra High Voltage LDMOS Devices
Author:
Affiliation:
1. Indian Institute of Science,Electronic Systems Engineering,Bangalore,India
Publisher
IEEE
Link
http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/10117590/10117577/10117871.pdf?arnumber=10117871
Reference30 articles.
1. A simulation study of SOI RESURF junctions for HV LDMOS (>600V)
2. A new double epitaxial layer dielectric isolation technology for HVICs
3. high voltage thin layer devices (resurf devices);appels;1979 International Electron Devices Meeting,1979
4. Dependence of breakdown voltage on drift length and linear doping gradients in SOI RESURF LDMOS devices
5. A new ESD self-protection structure for 700V high side gate drive IC
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