A New Sputtering Source for Magnetic Film Preparation
Author:
Publisher
The Magnetics Society of Japan
Subject
Electrical and Electronic Engineering,Condensed Matter Physics,Instrumentation,Electronic, Optical and Magnetic Materials
Reference8 articles.
1. 1) 星、直江、山中:「対向ターゲット式高速.低温スパッタ法とその磁性膜作製への応用」,電子通信学会論文誌(C), J65-C(6), 490(1982)
2. 2) K. Nakamura, T. Yamada, Y. Ohta & A. Itoh; ““GT TARGET” A NEW HICH RATE SPUTTERING TARGET OF MAGNETIC MATERIALS”, IEEE Trans. on Magn., MAG-18(.1080(1983)
3. 3) M. Yasumura, K. Ouchi and S. Iwasaki; IEEE Trans. on Magn., MAG-24, p.2794, 1987
4. 4) M. Naoe, S. Yamanaka & Y. Hoshi; “FACING TARGETS TYPE OF SPUTTERING METHOD FOR DEPOSITION OF MAGNETIC METAL FILMS AT LOW TEMPERATURE AND HIGH RATE”, IEEE trans. on Magn.., MAG-16, 640(1980)
5. 5) 高橋、宮田、吉田; 「EPマグネトロンスパッタ法によるCo-Cr膜の作成と特性」, 応用磁気学会誌, 10(2), 51(1986)
1.学者识别学者识别
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