ПОЛУЧЕНИЕ МОЛЕКУЛЯРНОГО ВОДОРОДА, ОБРАЗОВАННОГО ТЕРМИЧЕСКИМ И РАДИАЦИОННО-ТЕРМИЧЕСКИМ ПРЕВРАЩЕНИЕМ ВОДЫ В СИСТЕМЕ НАНО-Si+H2O

Abstract

Исследованы закономерности зависимости выхода молекулярного водорода, полученного при термическом и радиационно-термическом превращении воды под воздействием гамма-квантов (60Co, P = 18,17 рад/с) на систему нано-Si+Н2О с размерами частиц dSi = 50 нм, от температуры (T = 300, 373, 473, 573, 623 и 673 K) общей системы, а также от плотности пара воды (r = 0,25; 0,5; 1; 3 и 8 мг/см3) при постоянном значении температуры T = 673 K. В этой системе в реакционной среде с плотностью паров воды  = 8 мг/см3 и в интервале температур 300 ≤ T ≤ 473 K молекулярный водород получается только радиационно-термическим, а в интервале температур 573 ≤ T ≤ 673 K  термическим и радиационно-термическим способами. При 300 ≤ T≤ 473 K энергия активации радиационно-термического процесса составляет 1,07 кДж/моль, а при 573 ≤ T ≤ 673 K энергии активации термического и радиационно-термического процессов соответственно – 68,6 и 53,83 кДж/моль. При T = 673 K выход и скорость образования молекулярного водорода, полученного при термическом и радиационно-термическом превращении паров воды в реакционной среде, растут прямо пропорционально их плотности (ρ < 3 мг/см3), а при значениях ρ ≥ 3 мг/см3 наблюдается резкое уменьшение скорости образования молекулярного водорода.