光刻对准关键技术的发展与挑战

Author:

Qiu Jun 邱俊,Yang Guanghua 杨光华,Li Jing 李璟,Lu Zengxiong 卢增雄,Ding Minxia 丁敏侠

Publisher

Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics

Subject

Atomic and Molecular Physics, and Optics,Electronic, Optical and Magnetic Materials

Reference125 articles.

1. Evolution in lithography techniques: microlithography to nanolithography;J Misharwal;Nanomaterials,2022

2. 先进光刻技术的发展历程与最新进展;李艳丽;激光与光电子学进展,2022

3. Evolution and updates of advanced photolithography technology;Y L Li;Laser & Optoelectronics Progress,2022

4. 超大规模集成电路先进光刻理论与应用;韦亚一,2016

5. Theory and application of advanced lithography for VLSI;Y Y Wei,2016

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