基于遗传算法的快轴流CO2激光放大器的参数优化

Author:

You Cong 游聪,Huang Wei 黄维,Lin Gaojie 林高洁,Li Bo 李波,Zhao Jiang 赵江,Hu Youyou 胡友友

Publisher

Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics

Reference20 articles.

1. Evolution and updates of advanced photolithography technology;Y L Li;Laser & Optoelectronics Progress,2022

2. 先进光刻技术的发展历程与最新进展;李艳丽;激光与光电子学进展,2022

3. Research progress on laser-produced plasma light source for 13.5 nm extreme ultraviolet lithography;W M Hu;Chinese Optics,2020

4. 激光等离子体13.5 nm极紫外光刻光源进展;宗楠;中国光学,2020

5. CO2 laser drives extreme ultraviolet nano-lithography: second life of mature laser technology;K M Nowak;Opto-Electronics Review,2013

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