激光诱导放电等离子体极紫外光源的研究-Reference-Cited by-同舟云学术

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激光诱导放电等离子体极紫外光源的研究

Published:2024 Issue:7 Volume:51 Page:0701012
ISSN:0258-7025
Container-title:Chinese Journal of Lasers
language:en
Short-container-title:Chin. J. Laser

Author:

Wang Junwu 王均武,Xuan Hongwen 玄洪文,Wang Xinbing 王新兵,Zakharov Vassily S.

Publisher

Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics

Reference39 articles.

1. Laser-assisted discharge produced plasma (LDP) EUV source for actinic patterned mask inspection (APMI);K Chakravorty;Proceedings of SPIE,2021

2. 极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势;林楠;激光与光电子学进展,2022

3. Research progress and development trend of extreme ultraviolet lithography source;Y Y Chen;Laser & Optoelectronics Progress,2022

4. Study on 100 kHz repetitive frequency tin droplet targets;X H Li;Laser & Optoelectronics Progress,2023

5. 100 kHz重复频率锡液滴靶研究;孙海轶;激光与光电子学进展,2023

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