光刻机环状多分区高能量利用率光瞳校正研究

Author:

Zhu Siyu 朱思羽,Yang Baoxi 杨宝喜,Ma Xiaozhe 马晓喆,Zhang Fang 张方,Cheng Weilin 程伟林,Niu Zhiyuan 牛志元,Huang Huijie 黄惠杰

Publisher

Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics

Subject

Electrical and Electronic Engineering,Atomic and Molecular Physics, and Optics,Electronic, Optical and Magnetic Materials

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1. 亚十纳米导向自组装与深紫外混合光刻技术;Laser & Optoelectronics Progress;2022

2. 激光光强波动无关的248 nm退偏器检测方法;Chinese Journal of Lasers;2022

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