不同掺杂浓度Lu掺杂GaN电子结构和光学性质的第一性原理研究

Author:

Fu Shasha 付莎莎,Xiao Qingquan 肖清泉,Tang Huazhu 唐华著,Yao Yunmei 姚云美,Zou Mengzhen 邹梦真,Ye Jianfeng 叶建峰,Xie Quan 谢泉

Publisher

Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics

Reference52 articles.

1. Properties of advanced semiconductor materials: GaN, AlN, InN, BN, SiC, SiGe;M E Levinshtein,2001

2. Gallium nitride as an electromechanical material;A Ansari;Journal of Microelectromechanical Systems,2014

3. Improving GaN-on-silicon properties for GaN device epitaxy;J Bläsing;Physica Status Solidi C,2011

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5. GaN and related materials II;S J Pearton,2000

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