基于薄膜传感器的化学机械抛光面压力分布检测装置研制及应用

Author:

Zhang Chupeng 张楚鹏,Yang Linxiao 杨林霄,Xu Han 许涵,Sun Jiazheng 孙家政,Li Yingxue 李莹雪,Chen Xiao 陈肖

Publisher

Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics

Subject

Electrical and Electronic Engineering,Atomic and Molecular Physics, and Optics

Reference27 articles.

1. Effect of modified polishing agent on polishing quality of optical glass;X Jiao;Chinese Journal of Lasers,2017

2. 改性抛光剂对光学玻璃抛光质量的影响;梁尚娟;中国激光,2017

3. 单晶硅化学机械抛光划痕演变研究;夏菁菁;光学学报,2022

4. Scratch evolution for monocrystalline silicon during chemical-mechanical polishing;Z S Wang;Acta Optica Sinica,2022

5. The theory and design of plate glass polishing machine;F W Preston;Journal of the Society of Glass Technology,1927

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