基于归一化的高精度EUV反射率测试技术研究-Reference-Cited by-同舟云学术

登录注册会员服务联系我们

基于归一化的高精度EUV反射率测试技术研究

Published:2024 Issue:7 Volume:51 Page:0701015
ISSN:0258-7025
Container-title:Chinese Journal of Lasers
language:en
Short-container-title:Chin. J. Laser

Author:

Zhang Liangle 张良乐,Han Xiaoquan 韩晓泉,Xie Wanlu 谢婉露,Wu Xiaobin 吴晓斌,Fang Xuchen 方旭晨,Gao Zixiang 高梓翔,Sha Pengfei 沙鹏飞,Wang Kuibo 王魁波

Publisher

Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics

Reference26 articles.

1. EUV optics: status, outlook and future;P Graeupner;Proceedings of SPIE,2022

2. 7/5 nm logic manufacturing capabilities and requirements of metrology;A F Bello;Proceedings of SPIE,2018

3. High-NA EUV lithography: current status and outlook for the future;H J Levinson;Japanese Journal of Applied Physics,2022

4. EUV lithography: past, present and future;J P Benschop;Proceedings of SPIE,2021

5. High-NA EUV lithography exposure tool: key advantages and program progress;S Lok;Proceedings of SPIE,2021

同舟云学术

1.学者识别学者识别

2.学术分析学术分析

3.人才评估人才评估

"同舟云学术"是以全球学者为主线，采集、加工和组织学术论文而形成的新型学术文献查询和分析系统，可以对全球学者进行文献检索和人才价值评估。用户可以通过关注某些学科领域的顶尖人物而持续追踪该领域的学科进展和研究前沿。经过近期的数据扩容，当前同舟云学术共收录了国内外主流学术期刊6万余种，收集的期刊论文及会议论文总量共计约1.5亿篇，并以每天添加12000余篇中外论文的速度递增。我们也可以为用户提供个性化、定制化的学者数据。欢迎来电咨询！咨询电话：010-8811{复制后删除}0370

www.globalauthorid.com

TOP