Dépôt d'alliages amorphes NixAg1 - x par pulvérisation RF ; étude en temps réel de leurs cinétiques de cristallisation
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Publisher
EDP Sciences
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http://rphysap.journaldephysique.org/10.1051/rphysap:019860021012077500/pdf
Reference15 articles.
1. The effect of the external parameters of sputtering on the internal parameters of the discharge plasma
2. Préparation et étude des propriétés de transport de films amorphes NixAg1−x
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