1. A.M. Bialostocka, W. Walendziuk, The continuous measurement of the potential during the process of the electrochemical copper setting, Prz Elektrotechniczn, 88 (2012) 163-165.
2. M. Trzaska, A.M. Białostocka, Electrodes modeling In the copper electrocrystallization process, Prz Elektrotechniczn, 2 (2007) 95-98.
3. B.A. M., L. Zaniewski, Automatyczna kontrola rozkładu potencjału w procesie elektrochemicznego osadzania miedzi, Informatyka Automatyka Pomiary w Gospodarce i Ochronie Środowiska, (2011) 20-23.
4. M. Duś-Sitek, Mechanizmy powstawania nierównowagowych koncentracji ładunków jako źródeł pola elektrycznego w warstwie wierzchniej metali, Politechnika Częstochowska, Prace Naukowe Wydziału Inżynierii Procesowej, Materiałowej i Fizyki Stosowanej, (2002).
5. J.M.D. Coey, G. Hinds, Magnetic electrodeposition, J Alloy Compd, 326 (2001) 238-245.