1. 1) Y. Tzeng, C. Wu, S. Lee, Mater. Lett., 161, 340-342 (2015).
2. 2) Y. Deng, B. Peng, G. Xu, Q. Pan, Z. Yin, R. Ye, Y. Wang, L. Lu, Mater. Sci. Eng., A, 639, 500-513, (2015).
3. 3) S. R. Koteswara, B. K. Devi, K. Sreenivasa, K. Prasad, Int. J. Adv. Manuf. Technol., 45, 16-24 (2009).
4. 4) A. Stesmans, S. Iacovo, D. Cott, A. Thean, H. Arimura, S, Sinocke, V. V. Afanas'ev, Microelectron. Eng., 147, 180-183 (2015).
5. 5) R. J. Zollweg, R. W. Liebermann, D. K. McLain, J. Appl. Phys., 52, 3293-3303 (1981).