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Thermal Behavior along Depth of Extreme Ultraviolet Lithography Mask during Dry Etching

  • Published:2001-12-15 Issue:Part 1, No. 12 Volume:40 Page:6959-6964
  • ISSN:0021-4922
  • Container-title:Japanese Journal of Applied Physics
  • language:en
  • Short-container-title:Jpn. J. Appl. Phys.

Author:

Chiba Akira,Hoshino Eiichi,Takahashi Masashi,Yamanashi Hiromasa,Hoko Hiromasa,Lee Byoung Taek,Yoneda Takashi,Ito Masaaki,Ogawa Taro,Okazaki Shinji

Publisher

IOP Publishing

Subject

General Physics and Astronomy,Physics and Astronomy (miscellaneous),General Engineering
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