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Electronic and Structural Characterisation of Boron-Doped Hydrogenated Silicon Thin and Ultrathin Films Prepared by RF Magnetron Sputtering

  • Published:1994-01-15 Issue:Part 1, No.1A Volume:33 Page:42-50
  • ISSN:0021-4922
  • Container-title:Japanese Journal of Applied Physics
  • language:en
  • Short-container-title:Jpn. J. Appl. Phys.

Author:

Sharma Shailesh N.,Bose Subhasis,Banerjee Ratnabali,Batabyal Ajit K.,Banerjee Dipali,Bhattacharya Ramen

Publisher

IOP Publishing

Subject

General Physics and Astronomy,Physics and Astronomy (miscellaneous),General Engineering

Cited by 1 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

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