Chemical-Mechanical Polishing-Reference-Cited by-同舟云学术

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Chemical-Mechanical Polishing

Published:2007-07-09 Issue: Volume: Page:17-1-17-54
ISSN:
Container-title:Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology, Second Edition
language:
Short-container-title:

Author:

Shinn Gregory,Korthuis Vincent,Grover Gautum,Fang Simon,Boning Duane

Publisher

CRC Press

Link

http://www.crcnetbase.com/doi/pdf/10.1201/9781420017663.ch17

Reference144 articles.

1. Sivaram, S., K. Monnig, R. Tolles, A. Maury, and R. Leggett. In Overview of Planarization by Mechanical Polishing of Interlevel Dielectrics, Symposium on ULSI Science and Technology. 3rd ed., 606-16. Pennington, NJ: The Electrochemical Society, 1991.

Cited by 1 articles. 订阅此论文施引文献订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Water-in-Oil Dispersion for KH2PO4(KDP) Crystal CMP;Journal of Dispersion Science and Technology;2010-11-23

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