Nanoparticle photoresists from HfO2 and ZrO2 for EUV patterning

Author:

Trikeriotis Markos,Krysaki Marie,Chung Yeon Sook,Ouyang Christine,Cardineau Brian,Brainard Robert,Ober Christopher K.,Giannelis Emmanuel P.,Cho Kyiungyong

Publisher

Technical Association of Photopolymers, Japan

Subject

Materials Chemistry,Organic Chemistry,Polymers and Plastics

Reference5 articles.

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