1. 1. V. Bakshi, “EUV lithography”, Vol. 178, SPIE Press (2009).
2. 2. A. Pirati, R. Peeters, D. Smith, S. Lok, A. W. E. Minnaert, M. van Noordenburg, J. Mallmann, N. Harned, J. Stoeldraijer, C. Wagner, C. Zoldesi, E. v. Setten, J. Finders, K. d. Peuter, C. d. Ruijter, M. Popadic, R. Huang, M. Lin, F. Chuang, R. v. Es, M. Beckers, D. Brandt, N. Farrar, A. Schafgans, D. Brown, H. Boom, H. Meiling, and R. Kool, Proc. SPIE, 9422 (2015) 94221P.
3. 3. H. Mizoguchi, T. Abe, Y. Watanabe, T. Ishihara, T. Ohta, T. Hori, A. Kurosu, H. Komori, K. Kakizaki, A. Sumitani, O. Wakabayashi, H. Nakarai, J. Fujimoto, and A. Endo, Proc. SPIE, 7636 (2010) 763608.
4. 4. A. Endo, H. Hoshino, T. Suganuma, M. Moriya, T. Ariga, Y. Ueno, M. Nakano, T. Asayama, T. Abe, H. Komori, G. Soumagne, H. Mizoguchi, A. Sumitani, and K. Toyoda, Proc. SPIE, 6517 (2007) 65170O.
5. 5. H. Mizoguchi, T. Abe, Y. Watanabe, T. Ishihara, T. Ohta, T. Hori, T. Yanagida, H. Nagano, T. Yabu, S. Nagai, G. Soumagne, A. Kurosu, K. M. Nowak, T. Suganuma, M. Moriya, K. Kakizaki, A. Sumitani, H. Kameda, H. Nakarai, and J. Fujimoto, Proc. SPIE, 7969 (2011) 796908.