Positive-type Photosensitive Polyimide with Low Modulus based on Soluble Block Copoly(imide-siloxane)

Author:

Jin Xing Zhou,Ishii Hiroyuki

Publisher

Technical Association of Photopolymers, Japan

Subject

Materials Chemistry,Organic Chemistry,Polymers and Plastics

Reference7 articles.

1. (1) Omote. T. Photosensitive Polyimides: Molecular Design and Synthesis. In polyimide Fundamental and Applications; Ghosh. N. K.; Mittal. K. L., Eds.; Marcel Dekker:New York, P121-149 (1996)

2. (2) A. Sasaki, M. Miyasaka, M. Hiro, M. Kaji , J. Photopolymer. Sci. Tech., 15(2002) P167

3. (3) M. Yuasa, N. Furukawa, Y. Wada, Y. Kimura, J. Photopolymer. Sci. Tech., 16(2003) P227

4. Adhesive evaluation of bisimide additives in LARC-TPI

5. (5) Itatani, H. Kogyouzairyo, 45(13), 42(1997)

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