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A Comprehensive Review of EUV Resist Materials and Processing at Selete

  • Published:2011 Issue:2 Volume:24 Page:111-118
  • ISSN:0914-9244
  • Container-title:Journal of Photopolymer Science and Technology
  • language:en
  • Short-container-title:J. Photopol. Sci. Technol.

Author:

Itani Toshiro

Publisher

Technical Association of Photopolymers, Japan

Subject

Materials Chemistry,Organic Chemistry,Polymers and Plastics

Reference28 articles.

1. [1] International Technology Roadmap for Semiconductors 2009 Edition, Lithography.

2. [2] K. Matsunaga, G. Shiraishi, J. J. Santillan, K. Kaneyama, H. Oizumi, and T. Itani: Proc. SPIE 7636 (2011) in press.

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