Hemicellulose Block Copolymers for Advanced Lithography Process

Author:

Morita Kazuyo1,Yamamoto Kimiko1,Harumoto Masahiko2,Tanaka Yuji2,Nakayama Chisayo2,Arisawa You2,Motono Tomohiro2,Stokes Harold3,Asai Masaya2,Pieczulewski Charles2

Affiliation:

1. Oji Holdings Corporation

2. SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.

3. SCREEN SPE Germany GmbH

Publisher

Technical Association of Photopolymers, Japan

Subject

Materials Chemistry,Organic Chemistry,Polymers and Plastics

Reference21 articles.

1. 1. H. Hu, M. Gopinadhan, and C. O. Osuji, Soft Matter, 10 (2014) 3867.

2. 2. S. Morita, R.Saito, R. Yamamoto, N. Sasao, T. Sawabe, K. Asakawa, and S. Sugimura, Proc. SPIE, 10144 (2017) 101440R.

3. 3. K. Morita and K. Yamamoto, Proc. SPIE, 10146 (2017) 101460Y.

4. 4. E. W. Cochran, C. J. Garcia-Cervera, and G. H. Fredrickson, Macromolecules, 39 (2006) 2449.

5. 5. S. -M. Park, G. S. W. Craig, Y. -H. La, H. H. Solak, and P. F. Nealey, Macromolecules, 40 (2007) 5084.

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