Proposal of Flow Split Controller and Control Parameter Optimization for Semiconductor Manufacturing Process

Author:

TAKIJIRI Kotaro1,OSUKA Koichi2,SUGIE Toshiharu2

Affiliation:

1. HORIBA STEC, Co., Ltd.

2. Graduate School of Engineering, Osaka University

Publisher

The Society of Instrument and Control Engineers

Subject

General Medicine

Reference12 articles.

1. 1) 和田,寺尾,宮瀬,堀,土井,古米:低欠陥6インチSiCエピタキシャル基板“EpiEra”,住友電工グループ技術論文誌,193, 53/57 (2018)

2. 2) S. Hwang and K. Kanarik: Evolution of across-wafer uniformity control in plasma etch, Solid State Technology, July 2016, 16/20 (2016)

3. 3) D. Dictus, W. Boullart, V. Paraschiv, S.D. Gendt, D. Shamiryan and C. Vinckier: Impact of metal etch residues on etch species density and uniformity, Journal of Vacuum Science & Technology B Microelectronics and Nanometer Structures, 28-4, 789/794 (2010)

4. 4) 羽深  等:Siエピタキシャル薄膜作製プロセスのシミュレーション,日本真空学会誌,49-9,525/529 (2006)

5. 5) A.E. Gower-Hall: Integrated Model-Based Run-to-Run uniformity control for Epitaxial silicon deposition, Ph.D. Thesis, Massachusetts Institute of Technology (2001)

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