Revival of grayscale technique in power semiconductor processing under low-cost manufacturing constraints

Author:

Schneider Jens,Kaiser Dieter,Morgana Nicolo,Feick Henning,Heller Marcel

Publisher

SPIE

Reference14 articles.

1. Dearnaley G., Freeman J.H., Nelson R.S., Stephen J., [Ion Implantation], American Elsevier Publishing Co., New York, 802 pp. (1973)

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3. High-Energy Ion Implanters and Applications Take Off;Rubin,1997

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5. Ziegler J.F., [Ed. Ion Implantation: Science and Technology, Ion Implant Technology], Edgewater, MD, 687 pp. (2000)

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