Optical and structural characterization of Nb, Zr, Nb/Zr, Zr/Nb thin films on Si3N4membranes windows
Author:
Affiliation:
1. Univ. degli Studi di Padova (Italy)
2. CNR-IFN (Italy)
Publisher
SPIE
Reference11 articles.
1. Note: Thermally stable thin-film filters for high-power extreme-ultraviolet applications
2. Powell, Forbes R. Johnson, Terry A. Luxel Corporation, Sandia National Laboratories. Filter windows for EUV lithography
3. Zirconium and Niobium Transmission Data at Wavelengths from 11-16 nm and 200-1200;Johnson,2004
4. Broadband transmission masks, gratings and filters for extreme ultraviolet and soft X-ray lithography
5. Series in Optics and Optoelectronics
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