Wafer edge protection kit for MEMS and TSV Si-etching

Author:

Wieland Robert,Nguyen K.,Seidelmann U.,Scholz M.,Schrag G.

Publisher

SPIE

Reference9 articles.

1. Mikrosystemtechnik für Ingenieure;Menz,2012

2. Using deep RIE for micromachining SOI wafers;Belov,2002

3. Handbook of 3D Integration;Garrou,2008

4. Bevel edge treatment for reduction of defect density….;Ehrentraut,2011

5. Advanced Micro and Nanosystems, Vol. 2. CMOS – MEMS, chapter 10, edited by H. Baltes, O. Brand, G.K. Fedder et al, WILEY-VCH, ISBN: 3-527-31080-0, (2005).

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