Full-field wafer warpage measurement technique

Author:

Hsieh H. L.1,Lee J. Y.2,Huang Y. G.1,Liang A. J.1,Sun B. Y.1

Affiliation:

1. National Taiwan Univ. of Science and Technology (Taiwan)

2. National Central Univ. (Taiwan)

Publisher

SPIE

Reference21 articles.

1. Determination of stress in evaporated metal films;Hoffman;Phys. Rev.,1950

2. Stresses Developed in Optical Film Coatings

3. Warpage and slip dislocation lines measurements in semiconductor processing;Moslehi;EP0641992,2000

4. Twyman-Green interferometer for testing microspheres

5. Thermal stresses and cracking resistance of dielectric films (SiN, Si3N4, and SiO2) on Si substrates

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