Cost modeling 22nm pitch patterning approaches

Author:

Korczynski Ed

Publisher

SPIE

Reference8 articles.

1. Understanding and Using Cost of Ownership;Wright,1997

2. Low-K dielectric cost modeling;Korczynski,1997

3. Optical Lithography Cost of Ownership (COO) - Final Report for LITG501;Muzio,2000

4. EUVL: Challenges to Manufacturing Insertion

5. Innovative scatterometry approach for self-aligned quadruple patterning (SAQP) process control;Gunay-Demirkol,2016

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