Native conflict awared layout decomposition in triple patterning lithography using bin-based library matching method
Author:
Publisher
SPIE
Reference18 articles.
1. Layout Decomposition for Triple Patterning Lithography
2. Double pattern EDA solutions for 32nm HP and beyond
3. Development of layout split algorithms and printability evaluation for double patterning technology;Chiou,2008
4. Layout Decomposition Approaches for Double Patterning Lithography
5. Double Patterning Layout Decomposition for Simultaneous Conflict and Stitch Minimization
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