Megasonic cleaning strategy for sub-10nm photomasks

Author:

Hsu Jyh-Wei1,Samayoa Martin2,Dress Peter3,Dietze Uwe2,Ma Ai-Jay4,Lin Chia-Shih4,Lai Rick4,Chang Peter4,Tuo Laurent4

Affiliation:

1. SUSS MicroTec Inc. (Taiwan)

2. SUSS MicroTec Inc. (United States)

3. SUSS MicroTec Photomask Equipment (Germany)

4. Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd. (Taiwan)

Publisher

SPIE

Reference20 articles.

1. Fundamental study of MegaSonic cleaning;Zhang,1993

2. Cavitation;Young,1989

3. Cleaning technology challenges for sub 16nm hp node;Rastegar,2011

4. Measurement of hydroxyl radicals in wafer cleaning solutions irradiated with megasonic waves;Keswani,2014

5. Efficient ozone, sulfate and ammonium free resist stripping process;Dattilo,2014

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