Correlation between polymer platform of ArF photoresist and defect in the track nozzle of manufacturing process line

Author:

Song Ji Young,Seo Dong Chul,Cho Seung Duk,Joo Hyun Sang,Kim Kyoung Mun,Lim Hyun Soon,Kim Sang Jin,Park Joo Hyeon,Jung Jae Chang,Lee Sung Koo,Bok Chul Kyu,Moon Seung Chan

Publisher

SPIE

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1. Study on Unusual Pattern Bridge and Its Mechanism;Journal of Photopolymer Science and Technology;2008

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