Production mask composition checking flow

Author:

Ma Shou-Yuan,Yang Chuen-Huei,Tsai Joe,Wang Alice,Lin Roger,Lee Rachel,Deng Erwin,Lin Ling-Chieh,Liao Hung-Yueh,Tsai Jenny,Bowhill Amanda,Vu Hien,Russell Gordon

Publisher

SPIE

Reference3 articles.

1. Mask manufacturing rule check: how to save money in your mask shop;Keck,2001

2. Strategy optimization for mask rule check in wafer fab;Yang,2015

3. Generic hierarchical engine for mask data preparation;Kalus,2002

Cited by 2 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Extending deep-UV multi-beam laser writing for optical and EUV masks;Novel Patterning Technologies for Semiconductors, MEMS/NEMS and MOEMS 2020;2020-03-23

2. Extending a multi-beam laser writer for optical and EUV masks;Photomask Technology 2019;2019-09-26

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