Fabrication and properties of plasmonic crystalline thin film of titanium nitride (TiN) by pulsed laser deposition with Nd:YAG laser at 355 nm
Author:
Affiliation:
1. Osaka Univ. (Japan)
Publisher
SPIE
Reference39 articles.
1. S. Rajak et al., Titanium Nitrides as plasmonic materials in visible frequency range, Proc. of SPIE Vol. 9654, 965412, doi: 10.1117/12.2181622.
2. Plasmonic silicon solar cells using titanium nitride: a comparative study;Khalifa,084098
3. H. Mekawey et al., Dispersion Analysis and Engineering in TiN 2D Plasmonic Waveguides, Proc. of SPIE Vol. 9371, 93711C, doi: 10.1117/12.2076651.
4. Oxides and nitrides as alternative plasmonic materials in the optical range [Invited]
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