Thin Film Technologies In Active Matrix Addressing System Of LCDs
Author:
Affiliation:
1. T. J. Watson Research Center (United States)
Publisher
SPIE
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1. Micro light emitting device prepared from sputter deposited thin hafnium oxide film;Solid-State Electronics;2013-11
2. A study of the surface reaction on the etched ITO thin films by using inductively coupled plasma;Vacuum;2013-07
3. Introduction;Thin Film Transistors;2004
4. Microstructure modifications induced by bonded hydrogen in N‐rich SiNx:H films;Journal of Applied Physics;1996-11-15
5. Etch mechanism in the low refractive index silicon nitride plasma‐enhanced chemical vapor deposition process;Applied Physics Letters;1993-07-12
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