Extreme ultraviolet light generation based on laser-produced plasmas (LPP) and gas-discharge-based pinch plasmas: a comparison of different concepts
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Publisher
SPIE
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1. Extreme Ultraviolet Lithography;Lithography;2013-03-07
2. Laser-produced plasma versus laser-assisted discharge plasma: physics and technology of extreme ultraviolet lithography light sources;Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS;2012-05-29
3. Lasers and Coherent Light Sources;Springer Handbook of Lasers and Optics;2012
4. An Introduction to Extreme-Ultraviolet Lithography;The Review of Laser Engineering;2008
5. Lasers and Coherent Light Sources;Springer Handbook of Lasers and Optics;2007
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