32-nm SOC printing with double patterning, regular design, and 1.2 NA immersion scanner-Reference-Cited by-同舟云学术

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32-nm SOC printing with double patterning, regular design, and 1.2 NA immersion scanner

Published:2007-03-16 Issue: Volume: Page:
ISSN:0277-786X
Container-title:SPIE Proceedings
language:
Short-container-title:

Author:

Trouiller Yorick,Farys Vincent,Borjon Amandine,Belledent Jérôme,Couderc Christophe,Sundermann Frank,Urbani Jean-Christophe,Rody Yves,Gardin Christian,Planchot Jonathan,Conley Will,Goirand Pierre-Jerome,Warrick Scott,Robert Frédéric,Kerrien Gurwan,Vautrin Florent,Wilkinson Bill,Saied Mazen,Yesilada Emic,Montgomery Patrick,Le Cam Laurent,Martinelli Catherine

Publisher

SPIE

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1. Double-patterning requirements for optical lithography and prospects for optical extension without double patterning;Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS;2009-01-01

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