1. Soft x-ray reduction lithography using multilayer mirrors
2. D. V. Steenwinckel, J. H. Lammers, L. H. A. Leunissen, and J. A. J. M. Kwinten, Proc. SPIE, 5753 (2005) 269.
3. M. Neisser and S. Wurm, Adv. Opt. Tchn., 4 (2015) 235.
4. R. Peeters, S. Lok, J. Mallman, M. Noordenbur, N. Harned, P. Kuerz, M. Lowisch, E. Setten, G. Schiffelers, A. Pirati, J. Steldraijer, D. Brandt, N. Farrar, I. Fomenkov, H. Boom, H. Meiling and Ron Kool, Proc. SPIE, 9048 (2014) 90481J.
5. A. Pirati, R. Peeters, D. Smith, S. Lok, A. Minnaert, M. Noordenburg, J. Mallmann, N. Harned, J. Stoeldraijer, C. Wagner, C. Zoldesi, E. Setten, J. Finders, K. Peuter, C. Ruijter, M. Popadic, R. Huang, M. Lin, F. Chuang, R. Es, M. Beckers, D. Brandt, N. Farrar, A. Schafgans, D. Brown, H. Boom, H. Meiling and R. Kool, Proc. SPIE, 9422 (2015) 94221P.